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标准名称：开启式立式真空管式炉1100℃型号：SG-GL1100K（立式）温度范围：100 ~ 1100℃真空度：-0.1MPa炉膛尺寸：φ40/60/80/100***

真空管式炉采用国际先进技术，有单管、卧式、可开启式、单温区、双温区、温区等多种管式炉型。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、温场均匀性高、温区多，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品。真空管式炉产品特点：设计紧凑、结构轻巧、外观美观，工艺合理，采用一体式炉体设计，使用方便。炉膛材料采用优质的多晶莫来纤维真空吸附制成，具有重量轻、升温速度快、节能、省时、耐热震、耐高温、保温性好等特点，能满足各种快速烧结的要求。开启式炉膛结构，嵌入式加热元件，炉温均匀，有效节能60%以上。

标准名称：开启式卧式真空管式炉1100℃型号：SG-GL1100K温度范围：100 ~ 1100℃真空度：-0.1MPa炉膛尺寸：φ40/60/80/100***

气氛管式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和日本导电控温仪表，能进行40段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,该炉具有温度均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。它具有真空装置，可在多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温等优点。炉管材质采用优质耐高温的钢玉管，专门设计用于精密机械零件热处理、纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、化工材料、陶瓷电容器气氛烧结、真空烧结等。

�𲩱���վ-产品！管式真空气氛炉供应客户至上(2024更新成功)(今日/对比)， 随后,将该Co硫脲配合物溶液加入到70mL纯水中,再加入90mg的CdS-SV并进行充分搅拌以形成均匀的混合溶液｡然后将该溶液在160℃下水热处理24h｡反应结束后,用去离子水洗涤､离心多次,然后真空干燥12h,后在300℃的具有5%H2/Ar气氛的管式炉中加热60min以获得不同Co原子负载比例的Co/CdS-SV光催化剂｡

1℃，仪器高温度可达1500℃。此高温管式炉特别适合于在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差，请勿复制或者截图。如果您对参数有异议，或者想了解产品详细信息及更多参数，请与本销售人员。如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。8mm宝塔气嘴的出气口，并通过一个不锈钢针阀控制出气的通断。当需要对炉管内抽真空时，通过真空橡胶管将出气口与真空泵连接。包含一款YD858P型温度控制器；